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北京恒奧德儀器儀表有限公司
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北京恒奧德儀器旋轉涂膜操作原理

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詳細介紹

北京恒奧德儀器旋轉涂膜操作原理

 

機通過高速旋轉基片,利用離心力將膠液均勻涂覆在基片表面。其核心原理如下:

 

操作原理

?滴膠?:將膠液滴在高速旋轉的基片中心。

?離心力擴散?:旋轉產生的離心力使膠液從中心向四周擴散,形成均勻涂層。

?厚度控制?:涂層厚度取決于膠液粘度、基片轉速、旋轉加速度及溶劑蒸發速度,通常遵循h∝ω(-1/2)的數學關系。 ?

關鍵參數

?轉速范圍?:常見轉速范圍為500-8000/分,可通過光電檢測與負反饋電路實現±1%的轉速穩定度。 ?

?程序控制?:支持多段編程(20個程序段×51種速度變化),可實現低速注膠和高速勻膠的二段控制。 ?

?真空吸附?:采用無油真空泵固定基片,確保涂覆精度。 ?

應用場景

廣泛應用于半導體晶圓光刻膠涂布、光學鏡片涂層、生物材料薄膜制備等領域,尤其在需要高精度、均勻涂層的工藝中